知財活用のイノベーションで差別化を

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国立大学法人東京農工大学
光の先端技術で現実を超える:先端の近接場光源アレイと並列電子線装置

国立大学法人東京農工大学
光の先端技術で現実を超える:先端の近接場光源アレイと並列電子線装置

本特許は、特定の素材を使用した近接場光源アレイと並列電子線装置に関するものです。基板は石英ガラス、溶融石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、サファイア、蛍石のいずれかで形成され、金属部分は金、アルミニウム、銀のいずれかで構成されています。スリットの幅と金属の基板からの高さの関係が一定の数値条件を満たすことが求められています。また、複数の波長板が複数の金属に接続され、金属の延伸方向と交差する方向に延伸された金属を含む構造を持っています。これにより、光の入射面と先端が平行または略平行に配置され、先鋭化して形成された複数の鍵状部を有する透光性の基板と組み合わせることで、高精度な光制御と放電制御が可能になります。

つまりは、金属、石英ガラス、溶融石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、サファイア、蛍石など様々な素材を使用した近接場光源アレイと並列電子線装置の新たな技術。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造光学機器製造精密機器製造

  • 先端の光学機器の開発
  • 本特許技術を活用して、先端の光学機器を開発することが考えられます。特に、精密な光制御と放電制御が可能なため、高精度な光学測定装置や光通信機器の開発に有用です。

  • 高精度な半導体の製造
  • 本特許技術は、半導体製造においても応用可能です。特に、金属とスリットの幅と高さの特定の関係を利用した高精度なエッチングやリソグラフィが可能となります。

  • 先端の医療機器の開発
  • 本特許技術は、精密な光制御と放電制御が可能であるため、医療機器の開発にも活用可能です。特に、光を利用した治療機器や診断機器の開発に有用です。

活用条件

  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ

特許評価書

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  • 権利概要
出願番号特願2014-522693
発明の名称偏光制御素子、近接場光源、および並列電子線装置
出願人/権利者国立大学法人東京農工大学
公開番号WO2014/003146
登録番号特許第0006168664号
  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

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