国立大学法人京都大学
新次元の接合技術・分子レベルの結合を実現
国立大学法人京都大学
新次元の接合技術・分子レベルの結合を実現
本特許は、極性基が表面に存在する複数の基材と、分子構造上のケイ素原子に水素原子が結合したSi-基を2以上有するヒドロシラン化合物をボラン触媒の存在下で接触させ、これらの間で脱水素縮合反応を進行させることにより、分子構造を接合構造として前記複数の基材が互いに接合した接合体を得る工程を含む接合体の製造方法を提供します。これにより、新規なヒドロシラン化合物を使用して、これまでにないレベルの精密な接合が可能となります。極性基がヒドロキシ基及びフェノール基またはカルボニル基であり、基材が薄片、粒子または繊維であることも特徴です。
つまりは、極性基を有する複数の基材とヒドロシラン化合物を使用し、新規な接合体を作成する方法。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 化学業界マテリアル業界製造業
- 高精度接合技術の開発
- マイクロデバイスの製造
- 新規素材の開発
極性基を有する各種基材と新規ヒドロシラン化合物を使用して、前述した方法により新規な接合体を作成する。これにより、化学、マテリアル、製造業などにおいて、これまで以上の精度と強度を持つ接合体の製造が可能となる。
本方法を用いることで、微細なパーツを精密に接合することが可能となります。これにより、微細加工が求められる半導体や電子部品、医療機器などのマイクロデバイスの製造において、新たな可能性が開かれます。
本特許の技術を用いることで、従来の素材にない特性を持つ新規な素材を開発することが可能となります。これにより、新たな機能性素材や高性能コンポジット素材の研究・開発に利用することができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-535915 |
| 発明の名称 | 表面修飾基材の製造方法、接合体の製造方法、新規ヒドロシラン化合物および表面修飾基材 |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人京都大学 |
| 公開番号 | WO2015/136913 |
| 登録番号 | 特許第0005924633号 |
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