国立大学法人電気通信大学
高効率光学過程の実現を可能にする革新的レーザー装置

国立大学法人電気通信大学
高効率光学過程の実現を可能にする革新的レーザー装置
この特許は、レーザー光の特性を任意に変化させ、高効率で光学過程を実現する新しいレーザー装置に関するものです。特に、レーザー光を構成する離散的なスペクトルの強度分布、偏光分布、スペクトル位相を自由に変化させることが可能で、これらの手法を組み合わせることで、種々の光波形を持つレーザー光を作り出すことができます。また、入射レーザー光と発生レーザー光の異なる周波数間の間隔が10THz以上であることが特徴的です。これにより、より微細かつ高精度な加工が可能になり、レーザー光の高出力化や高効率化に寄与します。
つまりは、光の設計方法と装置を提供し、レーザー光の特性を任意に変化させることができる新しいレーザー装置です。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 工業製造光学技術半導体製造
- 高精度な加工技術の開発
- 光学過程の研究進展
- レーザー光の性能向上
このレーザー装置は、より微細かつ高精度な加工が可能であるため、高精度な加工技術の開発に活用できます。特に、LSI製造のリソグラフィ用の光源やレーザーを用いた加工技術にとって有益です。
このレーザー装置は、光学過程を高効率で実現するための新しい手法を提供します。これにより、光学過程の研究が進展し、新たな光学技術の開発を促進することが期待できます。
この装置は、レーザー光の強度分布、偏光分布、スペクトル位相を自由に変化させることが可能であるため、レーザー光の性能を向上させるための新たな手法を提供します。これにより、レーザー光のさらなる高出力化や高効率化に寄与することが期待できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2016-518246 |
発明の名称 | レーザー装置 |
出願人/権利者 | 国立大学法人電気通信大学 |
公開番号 | WO2015/170780 |
登録番号 | 特許第0006628287号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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