知財活用のイノベーションで差別化を

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国立研究開発法人科学技術振興機構
高精度で局所的な加工を可能にする気泡噴出チップ

国立研究開発法人科学技術振興機構
高精度で局所的な加工を可能にする気泡噴出チップ

本特許の気泡噴出チップは、高周波電気パルスを印加することで気泡を放出し、それを利用して加工対象物を局所的に加工することができます。具体的には、電極と対向電極が導通するように溶液を注入し、電極対に高周波電気パルスを印加することで気泡を放出します。また、インジェクション物質を含む溶液を気泡噴出部の前に流すことで、吸着した気泡を放出し、その気泡を利用して加工対象物を局所アブレーションしながら、加工対象物にインジェクション物質を導入することが可能です。これにより、従来の接触加工技術やレーザーによる非接触加工技術に比べて、切断面の粗さや熱による周辺組織への影響を大幅に減少させることができます。

つまりは、本特許は、基板上に任意の個数の気泡噴出部を形成でき、その大きさを確実に制御可能な気泡噴出チップ、およびそれを含む局所アブレーション装置とインジェクション装置に関するものである。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 医療機器プロセス制御マイクロ加工

  • 細胞操作における活用
  • 本特許の気泡噴出チップは、細胞等への核酸物質等を局所的に導入するための物理的インジェクション技術に活用できます。具体的には、細胞へのDNA等の導入や細胞の局所加工などに利用することが可能です。

  • マイクロ加工領域での活用
  • マイクロ加工領域でも本特許の気泡噴出チップは活用できます。従来の電気メス等の接触加工技術やレーザーによる非接触加工技術に比べて、切断面の粗さや熱による周辺組織への影響を大幅に減少させるため、より精密な加工が可能となります。

  • プロセス制御における活用
  • プロセス制御でも本特許の気泡噴出チップは活用できます。例えば、電極と対向電極が導通するように溶液を注入し、電極対に高周波電気パルスを印加することで気泡を放出する特性を利用して、液体の混合や濃度調整などのプロセス制御に利用することが可能です。

活用条件

  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ

特許評価書

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  • 権利概要
出願番号特願2016-552066
発明の名称気泡噴出チップ、局所アブレーション装置及び局所アブレーション方法、並びにインジェクション装置及びインジェクション方法
出願人/権利者国立研究開発法人科学技術振興機構
公開番号WO2016/052511
登録番号特許第0006385450号
  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

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