国立研究開発法人産業技術総合研究所
ナノテクノロジーが創造する未来、最先端のナノ結晶構造体形成技術
国立研究開発法人産業技術総合研究所
ナノテクノロジーが創造する未来、最先端のナノ結晶構造体形成技術
本特許は、チタン酸バリウムやチタン酸ストロンチウムナノ結晶と非極性溶媒を用いて、高分子膜で形成される凹凸構造を有する基板上でナノ結晶構造体を作製する技術に関して記述しています。この技術は、特定の工程を複数回繰り返すことで、ナノ結晶からなる構造体を高精度に形成することが可能であり、最短幅および深さが1mm以下の凹部に対しても適用可能です。特に、非極性溶媒に溶解しない高分子膜を用いることで、基板は様々な素材から選択可能であり、FET、IO、ガラス、シリコン、金属、セラミック、ポリマー、ゴム、低耐熱性基材などが利用できます。本特許は、ナノ結晶の特性を活用した新規材料の開発や、高精度なナノ結晶構造体の製造に対する新たな可能性を示しています。
つまりは、ナノ結晶の配列方法や、ナノ結晶構造体の作製方法、ナノ結晶構造体形成基板の製造方法を提供する特許。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 材料科学電子部品製造ナノテクノロジー
- 最先端のナノデバイスの開発
- 高機能なナノコーティングの実現
- 高精度なマイクロパターニング技術
本特許を活用することで、チタン酸バリウムやチタン酸ストロンチウムのナノ結晶を用いた新規なナノデバイスの開発が可能になります。特に、これらの材料は強誘電体や常誘電体の特性を持つため、電子デバイスなどの分野での応用が期待されます。
本特許に記載されている技術は、高分子膜を用いた非極性溶媒によるナノ結晶の凹凸構造への塗布方法を含んでいるため、高機能なナノコーティングの実現に寄与する可能性があります。これにより、耐久性や機能性を向上させた新たなコーティング材料の開発が可能になります。
本特許の技術は、ナノ結晶を用いた高精度なマイクロパターニングを可能にします。これは、半導体製造やマイクロエレクトロメカニカルシステム（MEMS）などの分野での新たな製造技術として活用できる可能性があります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2016-554052 |
| 発明の名称 | ナノ結晶の配列方法、ナノ結晶構造体の作製方法、ナノ結晶構造体形成基板及びナノ結晶構造体形成基板の製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | WO2016/060042 |
| 登録番号 | 特許第0006422989号 |
- サブスク
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- ライセンス
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