国立研究開発法人産業技術総合研究所
高性能な透明導電膜の実現:カーボンナノチューブ複合膜

国立研究開発法人産業技術総合研究所
高性能な透明導電膜の実現:カーボンナノチューブ複合膜
本特許は、カーボンナノチューブ複合膜の製造方法について述べています。該当の膜は、カーボンナノチューブと無機半導体からなる薄膜の積層膜を形成し、その後パルス光を照射して無機半導体粒子をカーボンナノチューブの結節点に移動させるという手法を用いています。この結果、光学的透過率が50-98%の範囲、膜の厚みが1-1000nmの範囲、シート抵抗が1-10000Ω/squareの範囲であることを特徴とした透明導電膜を製造することが可能となります。これにより、高透過率と低電気抵抗を両立した透明導電膜の製造が可能となり、ITO膜に代わる新しい電極材料として期待されています。
つまりは、高透過率と低電気抵抗を持つカーボンナノチューブ複合膜の製造方法。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器ナノテクノロジーディスプレイ製造
- 高性能ディスプレイの開発
- フレキシブル電子機器の製造
- 省エネルギー電子機器の開発
本特許の技術は、高透過率と低電気抵抗を両立した透明導電膜の製造を可能にします。これにより、高画質なディスプレイの開発に活用できます。
本特許の技術を用いれば、柔軟性を持ちながらも高い導電性能を持つ透明導電膜を製造することが可能です。これにより、フレキシブルなスマートフォンやウェアラブルデバイスの製造に活用できます。
本特許の技術は、低電気抵抗の透明導電膜を製造可能にします。これにより、エネルギー効率の良い電子機器の開発に寄与します。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2016-554127 |
発明の名称 | デバイス及びカーボンナノチューブ複合膜の製造方法 |
出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 | WO2016/060225 |
登録番号 | 特許第0006455944号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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