国立研究開発法人産業技術総合研究所
高速、高精度、エコフレンドリーなナノインプリント技術

国立研究開発法人産業技術総合研究所
高速、高精度、エコフレンドリーなナノインプリント技術
近年、半導体デバイス等の微細化が進み、一層の進展により高速なシステムと低消費電力動作が求められています。これに対応するためのリソグラフィ技術の装置等は高価となってきています。そこで、装置価格や使いやすさなどが安価でありながら、高解像度を有する微細パターン形成が可能なナノインプリントが注目されています。ナノインプリントでは、一度モールドを作製すれば、ナノ構造が科学的に繰り返し成型できるため、高いスループットが得られて経済的です。しかし、モールド凹部とレジスト間に大気が封止され、圧縮を受けて体積が減少すると、樹脂表面のエネルギーが低下し、転写精度が低下する問題があります。本特許では、この問題を解決するための技術を提案しています。
つまりは、本特許は、半導体デバイスのナノ加工における高精細なパターン形成技術、特にナノインプリント技術に関して述べています。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業ナノテクノロジー材料科学
- 高解像度パターン形成技術の開発
- 高速なシステムの開発
- エコフレンドリーな製造技術の開発
ナノインプリント技術は、高解像度のパターン形成が可能であるため、半導体デバイス等の微細化が進む現代において、高精度なパターン形成技術の開発に活用することができます。
本特許の技術は、一度モールドを作製すれば、ナノ構造が科学的に繰り返し成型できるため、高速なシステムの開発に貢献します。これにより、生産性の向上とコスト削減が期待できます。
ナノインプリント技術は、高いスループットが得られ、有害な廃棄物が少ないため、環境に配慮した製造技術の開発に活用することができます。これにより、製造業の持続可能性の向上に貢献します。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2017-547737 |
発明の名称 | インプリント装置 |
出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 | WO2017/073388 |
登録番号 | 特許第0006503606号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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