国立研究開発法人産業技術総合研究所
革新的な窒素化合物製造法とその装置

国立研究開発法人産業技術総合研究所
革新的な窒素化合物製造法とその装置
この特許は、マイクロ波プラズマを利用した窒素化合物の製造方法及びその製造装置に関するものです。特に、窒素化合物を製造する際の圧力を1kPa以上に設定し、マイクロ波の投入エネルギーを500ワット以下に制限することを特徴としています。また、ノズルを2個以上重ねて並べ、各ノズルから原料ガスを基材の表面に向けて流量を制御しながら吹き出し、マイクロ波を印加することでプラズマを生成し照射します。基材がTiである場合、窒素化合物としてTiNを製造します。さらに、窒素系活性種の量を計測し制御する装置も含まれています。
つまりは、マイクロ波プラズマを利用した窒素化合物の製造方法及びその製造装置に関する特許です。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体産業化学産業材料科学
- 高効率化合物半導体の製造
- 低温での窒素化合物の製造
- 高度な表面処理技術の開発
この特許の方法は、半導体技術分野において、特にGaN系化合物半導体を材料とする青・緑色発光ダイオード(LED)の製造に有効です。高硬度化、耐食性付与、耐摩耗性付与などの表面機能を付与する高密度窒素系活性種供給法を利用することで、効率的にLEDを製造することが可能となります。
この特許の方法は、低温で窒素化合物を製造するための新たな手法を提供します。これにより、低温での窒素化合物製造が可能となるため、エネルギーコストの削減や材料の品質向上に寄与する可能性があります。
この特許の技術は、窒化処理法を用いて材料の表面を改質する新たな手法を提供します。これにより、工作機械部品や内燃機関部品、航空機や自動車部品など、多岐にわたる製品の表面処理技術の向上に寄与する可能性があります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2017-548816 |
発明の名称 | 窒素化合物の製造方法及び製造装置 |
出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 | WO2017/078082 |
登録番号 | 特許第0006590420号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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