学校法人 工学院大学
革新的な金属膜形成用組成物
学校法人 工学院大学
革新的な金属膜形成用組成物
本発明は、特定の金属原子と配位子を用いて金属膜を形成するための組成物に関するものです。金属原子はAg、Cu、Li、Ni、Mn、Zn、Coから選ばれ、配位子はNH、R、OH、またはジアミン由来のものであり、これらの組み合わせによって、特定の条件下での金属膜の形成を可能にします。また、本発明の組成物は、アミノポリカルボン酸の錯体、アミノ酸化合物、およびアミノ酸化される化合物に由来する対アニオンを含みます。これらの組成物は、金属膜形成用組成物全量に含まれる金属原子の含有基が0.5質量% - 10質量%の範囲であることが特徴です。
つまりは、異なる種類の金属原子と配位子を用いて金属膜を形成するための組成物
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業化学工業電子部品製造業
- 高品質な半導体製造
- 電子部品の製造向上
- 化学工業への応用
本発明の金属膜形成用組成物は、半導体製造における金属膜の形成に利用可能です。特定の金属原子と配位子の組み合わせにより、均一で高品質な金属膜を形成することが可能となり、結果として性能の高い半導体を製造することができます。
本発明は、電子部品製造業においても利用可能です。金属膜の形成は電子部品製造において重要な工程であり、本発明の金属膜形成用組成物を使用することで、製品の品質と生産効率を向上させることが可能です。
本発明の金属膜形成用組成物は、化学工業における新規な材料開発に利用することが可能です。特定の金属原子と配位子の組み合わせにより、新たな化学反応の可能性を開くことが期待できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-565604 |
| 発明の名称 | 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法 |
| 出願人/権利者 | 学校法人 工学院大学 |
| 公開番号 | WO2017/135330 |
| 登録番号 | 特許第0006953006号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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