国立大学法人京都大学
未来の素材、低密度ゲル体の誕生
国立大学法人京都大学
未来の素材、低密度ゲル体の誕生
ポリシロキサン鎖と有機重合鎖を含む低密度ゲル体を製造する方法を提供します。この特許は、有機前駆鎖を含む繰り返し単位人が加水分解性の官能基が2つ以上結合したケイ素原子を側鎖に有する溶液系において、ゾルーゲル法により、繰り返し単位への側鎖に位置する官能基の加水分解反応と、ケイ素原子を有する側鎖間の重縮合反応を進行させ、湿潤ゲルを形成する工程を含みます。さらに、この湿潤ゲルを乾燥させて、骨格と細孔を有する低密度ゲル体を得る工程も含まれています。これにより、新たな材料としての低密度ゲル体の製造が可能となります。
つまりは、ポリシロキサン鎖と有機重合鎖を含む新たな低密度ゲル体の製造方法を特許化しました。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 化学業界材料科学製品開発
- 新素材としての利用
- 具体的な製品開発
- 研究材料としての活用
この低密度ゲル体は、その特性を活かして新たな素材としての利用が可能です。特に、その低密度と高い透過率は、光学素材や熱絶縁素材としての応用が期待されます。
この低密度ゲル体を用いて、例えば軽量で透明性の高い新素材として製品開発を行うことが可能です。具体的には、透明な保護フィルムや軽量なガラス代替材などの開発が考えられます。
この低密度ゲル体は、材料科学や化学の研究において新たな研究材料として活用することが可能です。その特性を理解し、さらなる新素材開発のための基礎研究に貢献できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2019-537674 |
| 発明の名称 | 低密度ゲル体とその製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人京都大学 |
| 公開番号 | WO2019/039541 |
| 登録番号 | 特許第0007164886号 |
- サブスク
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