国立大学法人九州工業大学
革新的な三次元表面精密測定装置
国立大学法人九州工業大学
革新的な三次元表面精密測定装置
本装置は、三次元の微小凹凸面の上に溶液を介してレーザ光を照射します。そして、微小凹凸面から散乱及び回折した光を光学的にフーリエ変換し、そのフーリエ変換像を光強度分布として電気信号に光電変換します。得られた光強度分布の波形を基本波数及び少なくとも一つの高調波数に分解し、それぞれの波長とその振幅をスペクトル情報として抽出します。この情報を用いて、三次元の微小凹凸面の形状を評価することが可能です。また、本装置はポリシングパッドの解析手法に利用する製造プロセスや実装プロセスで活用でき、半導体や液晶製造工程においても有効です。
つまりは、高精度な三次元表面の計測を可能にする、レーザ照射を活用した装置と方法を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造液晶製造精密機械製造
- 製造プロセスの精密化
- ポリシングパッドの解析
- 半導体製造プロセスの品質改善
本装置を製造プロセスに導入することで、製品の表面形状を高精度に測定し、製造精度を向上させることが可能です。特に、微細な凹凸を持つ製品の品質管理に活用できます。
ポリシングパッドの表面形状の解析に本装置を活用することで、研磨パッドの表面形状と研磨性能の相関を定量的に評価することができます。これにより、より効率的な研磨プロセスを設計することが可能となります。
半導体の製造プロセスにおいて、ウェハの平坦度は重要な品質要素です。本装置を活用することで、ウェハの微小凹凸面の形状を高精度に評価することが可能となり、製品の品質を向上させることができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2011-266969 |
| 発明の名称 | 三次元表面の計測装置及び方法 |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人九州工業大学 |
| 公開番号 | 特開2012-137484 |
| 登録番号 | 特許第0005892591号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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