東京都公立大学法人
金属元素ドープシリカガラスの製造

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金属元素ドープシリカガラスの製造
金属元素ドープシリカガラスは、蛍光材料、レーザー材料、光磁気光学材料などとして利用可能で、特に希土類元素を含む金属元素でドープされます。シリカガラスは広い透明領域、強い光や放射線に対する良好な照射耐性、高い機械的強度、化学的安定性を持つ優れた光学材料で、成形性も優れています。そのため、光ファイバー型のデバイスの作製に適しています。しかし、金属元素、特に価数3価以上の金属元素イオンの溶解度が小さく、ドープした金属元素が凝集しやすい問題があります。これを回避する方法として公知の方法がありますが、新たな製造方法を開発しています。
つまりは、希土類元素を含む金属元素でドープされたシリカガラスの製造方法
AIによる特許活用案
おすすめ業界 光学材料製造業ファイバーレーザー製造業光磁気光学材料製造業
- 光学材料の製造
- ファイバーレーザーの製造
- 光磁気光学材料の製造
この特許の製造方法を用いれば、蛍光材料、レーザー材料、光磁気光学材料として利用可能な金属元素ドープシリカガラスを製造することが可能となります。これにより、より高品質な光学材料の製造が可能となります。
シリカガラスは優れた成形性を持つため、ファイバーレーザーの製造に適しています。この特許の製造方法により、金属元素を均一にドープできるシリカガラスを製造することができます。これにより、性能の高いファイバーレーザーの製造が可能となります。
本特許の製造方法を用いて、光磁気光学機能を持つシリカガラスを製造することができます。このシリカガラスは、強い光や放射線に対する良好な照射耐性、高い機械的強度、化学的安定性を持つため、光磁気光学材料としての利用が可能です。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2011-016831 |
発明の名称 | 金属元素ドープシリカガラスおよびその製造方法 |
出願人/権利者 | 東京都公立大学法人 |
公開番号 | 特開2012-153594 |
登録番号 | 特許第0005896507号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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