知財活用のイノベーションで差別化を

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国立大学法人 千葉大学
光学素子の欠陥を一掃、断層像測定装置

国立大学法人 千葉大学
光学素子の欠陥を一掃、断層像測定装置

この装置は、光学素子の内部欠陥を発見し測定するための技術で、光学素子の製造工程で生じる可能性のある欠陥を事前に発見し、除去することが可能です。欠陥が存在すると、光学素子は光を所望の状態にすることができず、これを組み込んだ装置は正常に機能しなくなる可能性があります。この装置は、測定対象からの光を屈折させて集光させる第一のレンズ、第一のレンズを透過した光の光路長を調整する光路調整部、光路調整部からの光を撮像素子上に集光させる第二のレンズを有します。さらに、光路調整部は、回転板と、回転板を駆動する駆動部、回転板上に配置される回転反射部材を有します。

つまりは、高感度の測定器具を利用して光学素子の内部の欠陥を発見、測定する装置

AIによる特許活用案

おすすめ業界 光学機器製造業メディカル機器製造業宇宙・航空産業

  • 光学素子製造工程の品質管理
  • この装置を製造工程に組み込むことで、製造中に発生する欠陥を発見し、製品の品質を向上させることが可能です。また、不良品の出荷を防ぎ、製品の信頼性を高めることができます。

  • 欠陥検出装置としての商品開発
  • 本特許技術を用いて高感度の欠陥検出装置を開発し、市場に提供することで新たなビジネスチャンスを創出することが可能です。特に、精密な光学機器を必要とする医療や宇宙・航空産業などへの販路拡大が見込まれます。

  • メンテナンスサービスの提供
  • 既存の光学素子を使用している企業向けに、定期的なメンテナンスサービスを提供することで安定した収益を得ることができます。本装置を用いて定期的に欠陥のチェックを行い、必要に応じて修理や交換を行うことで、お客様の光学素子の寿命を延ばし、機能を維持します。

活用条件

  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ

特許評価書

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  • 権利概要
出願番号特願2011-263126
発明の名称断層像測定装置
出願人/権利者国立大学法人 千葉大学
公開番号特開2013-117377
登録番号特許第0005867855号
  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

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