国立研究開発法人物質・材料研究機構
高精度ナノシート単層膜作製法：スピンコート法の革新
国立研究開発法人物質・材料研究機構
高精度ナノシート単層膜作製法：スピンコート法の革新
つまりは、スピンコート法を用いた、ナノシート単層膜からなる薄膜の製造方法とその用途に関する特許です。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業化学業素材工学業
- 高性能半導体の製造
- 高効率光触媒の開発
- 新素材の探索
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2012-177153 |
| 発明の名称 | スピンコート法によりナノシート単層膜からなる薄膜を製造する方法、それによる超親水化材料、酸化物薄膜用基板、および、誘電体材料 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2013-253009 |
| 登録番号 | 特許第0005984089号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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