国立研究開発法人産業技術総合研究所
高精度なナノインプリント用モールドの製造方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
高精度なナノインプリント用モールドの製造方法
この特許は、ナノインプリント用モールドの製造方法において、高コントラスト位置合わせマークを備えたモールドの製造を可能にします。具体的には、位置合わせ用の高コントラストが位置合わせマーク倒域の凹部内に存在するナノインプリント用モールドを征来技術よりも簡単な工程で製造する製造方法に関する。この製造方法は、半導体デバイス、マイクロセンサなどのナノ加工品の製造に用いられます。特許内容によれば、この製造方法は、マスクパターン膜の形成、レジスト膜の形成、高コントラスト膜の形成、そしてレジスト膜とその上の高コントラスト膜の除去という工程を含む。これにより、半導体デバイス等のナノ加工品に対する要求が高まる中で、微細化が進むにつれ高価になっているリソグラフィ技術に対する負担を軽減することが期待されます。
つまりは、現有技術よりも簡単な工程でナノインプリント用モールドを製造する方法を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造マイクロエレクトロニクスマイクロセンサ製造
- 高精度な半導体デバイスの製造
- マイクロセンサの高精度化
- ナノ加工品製造業の効率化
この製造方法は、半導体デバイスの製造に大いに利用することができます。ナノインプリント用モールドをより簡単かつ効率的に製造できるため、製造コストを削減しながらも高精度な製品を提供することが可能です。
この特許技術を活用することで、微細なマイクロセンサの製造が可能になります。従来よりも簡単な工程で高精度なモールドを製造できるため、マイクロセンサの精度向上とコスト削減を同時に実現します。
当該製造方法は、ナノ加工品製造業にとって大きなメリットをもたらします。従来の製造方法に比べて簡単な工程で高精度なモールドを製造できるため、生産効率の向上とコスト削減に寄与します。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2013-220816 |
| 発明の名称 | 高コントラスト位置合わせマークを備えたモールドの製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2015-082624 |
| 登録番号 | 特許第0006278383号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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