国立研究開発法人産業技術総合研究所
光エネルギーを最大限に利用した革新的な装置

国立研究開発法人産業技術総合研究所
光エネルギーを最大限に利用した革新的な装置
この特許は、n型半導体を備える光電極を利用した光エネルギーの利用装置に関するものです。特に、前記n型半導体がTi、W、V、Bi、Fe、Nb、ランタノイド、及びTaの中から選択される元素を含む場合について詳しく説明しています。本装置は、前記電解槽がアノード室とカソード室に隔膜で区分され、カソード室に設けられたアノード電極と電気的に接続されたカソード電極を備えています。また、アノード室内に蓄積した酸化生成物を別の容器に移す移送部材も含まれています。これにより、酸化生成物を効率的に利用し、有機汚染物質の分解などに活用することが可能となります。
つまりは、半導体光電極を用いて酸化生成物を製造し、これを利用する新たな光エネルギー利用装置
AIによる特許活用案
おすすめ業界 エネルギー業界環境保護業界テクノロジー業界
- 有機汚染物質の分解への活用
- エネルギー生産への応用
- 高付加価値製品の製造
本特許の装置は、酸化生成物を利用して有機汚染物質を分解する能力を持っています。これにより、環境問題解決に寄与する可能性があります。
本装置は、半導体光電極上で酸化生成物を製造し、これをエネルギー源として利用することが可能です。これにより、新たなエネルギー生産手段としての可能性があります。
本装置を利用して、酸素や過酸化物などの高付加価値な製品を製造することも可能です。これにより、新たなビジネスチャンスを開拓することができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2014-227980 |
発明の名称 | 光エネルギーの利用方法および光エネルギーの利用装置 |
出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 | 特開2016-089249 |
登録番号 | 特許第0006388820号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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