国立研究開発法人産業技術総合研究所
高精細な印刷物を実現するインク膜形成方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
高精細な印刷物を実現するインク膜形成方法
本特許は、高付着性部位と低付着性部位からなるブランケットを使用した新たなインク膜形成方法に関するものです。ブランケットの表面には、化学的または物理的処理を部分的に施し、高付着性部位と低付着性部位の段差が100nm以下となるように形成されています。このブランケットを使用することで、インク膜は高付着性部位上にのみ転写され、未硬化の表面材料が塗布され、硬化してインク膜を形成します。この方法は、印刷物の高精度化や生産効率の向上に寄与します。
つまりは、高付着性部位と低付着性部位からなるブランケットを活用した新しいインク膜形成方法
AIによる特許活用案
おすすめ業界 印刷業界パッケージ業界広告業界
- 高精細な印刷物の製造
- 生産効率の向上
- 環境負荷の軽減
本特許の技術は、特に高精細な印刷物の製造において有効です。高付着性部位と低付着性部位からなるブランケットを用いることで、より細かいディテールを持つ印刷物を実現できます。
技術は、生産効率の向上にも寄与します。高付着性部位上にのみインク膜が転写されるため、無駄なインクの使用を抑えることができます。これにより、コスト削減や生産効率の向上が期待できます。
この技術を利用することで、インクの使用量を削減し、環境への負荷を軽減することが可能です。また、未硬化の表面材料を塗布し、硬化することでインク膜を形成するため、従来の印刷方法に比べて環境負荷が低くなります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-055140 |
| 発明の名称 | 平刷版を用いたパターン膜形成方法、形成装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2016-175192 |
| 登録番号 | 特許第0006411254号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です