本特許は、高純度窒素ガスを生成する際に、窒素中に残留するメタンを効率的に除去する技術に関するものです。従来の窒素精製では、酸素分離後に微量のメタン（CH₄）が残留し、触媒劣化や下流装置汚染の原因となっていました。本発明の**残留メタン除去装置（12）は、酸化金属を担体とする触媒（121）**を備え、これに酸素を含まない窒素ガスを通気することで、窒素中に残留するメタンを選択的に酸化し除去します。さらに、触媒の活性が低下した際には、**触媒機能回復装置（20）**を用いて酸素を通気し、触媒表面を再酸化することで機能を回復。これにより、触媒交換なしで長期間安定した運転が可能になります。本技術は、半導体製造や電子部品焼成など、高純度窒素を必要とする産業での連続運転に最適化されており、エネルギー効率・運用コスト・稼働信頼性のすべてを向上させる革新的な精製システムです。

つまりは、酸素を使わず燃焼触媒でメタンを酸化除去。触媒再生機構により長期間安定運転を実現する、高純度窒素生成のための革新的ガス精製技術です。